blank Aide rapide
blank Actualité maintenance

Dates prévues pour la maintenance

Interruptions régulières:
entre 5 h 00 et 5 h 15 HEC, du lundi au dimanche.

Autres interruptions
Accessibilité

2022.02.11

en savoir plus...
blank Flash info

Flash Info

Nouvelle version du Registre européen des brevets – des informations relatives aux procédures CCP sont disponibles dans le Registre européen des brevets.

2024-07-24

en savoir plus...
blank Liens utiles

Extrait du Registre européen des brevets

EP Présentation générale: EP0233333

EP0233333 - Procédé de traitement de photoréserves [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets]
StatutOpposition rejetée
Statut actualisé le  06.12.1996
Base de données mise à jour au 02.04.2025
Dernier événement   Tooltip19.09.2008Changement - mandatairepublié le 22.10.2008  [2008/43]
Demandeur(s)Pour tous les Etats désignés
USHIO DENKI
Asahi-Tokai Building 19 No. 6-1, 2-chome Ote-machi Chiyoda-ku
Tokyo, 100 / JP
[1987/35]
Inventeur(s)01 / Tanaka, Kazuya
USHIO DENKI 6409 motoishikawa-cho Midori-ku
Yokohama-shi Kanagawa / JP
02 / Ueki, Kazuyoshi
USHIO DENKI 6409 motoishikawa-cho Midori-ku
Yokohama-shi Kanagawa / JP
03 / Suzuki, Hiroko
USHIO DENKI 6409 motoishikawa-cho Midori-ku
Yokohama-shi Kanagawa / JP
04 / Mimura, Yoshiki
USHIO DENKI 6409 motoishikawa-cho Midori-ku
Yokohama-shi Kanagawa / JP
05 / Suzuki, Shinji
USHIO DENKI 6409 motoishikawa-cho Midori-ku
Yokohama-shi Kanagawa / JP
06 / Sugioka, Shinji
USHIO DENKI 6409 motoishikawa-cho Midori-ku
Yokohama-shi Kanagawa / JP
[1987/35]
Mandataire(s)Lang, Friedrich, et al
Lang & Tomerius
Patentanwaltspartnerschaft mbB
Rosa-Bavarese-Strasse 5
80639 München / DE
[N/P]
Précédent [2008/43]Lang, Friedrich, et al
Lang & Tomerius Patentanwälte Landsberger Strasse 300
80687 München / DE
Précédent [1995/34]Lang, Friedrich, Dipl.-Ing., et al
Patentanwälte Weber & Heim Irmgardstrasse 3
D-81479 München / DE
Précédent [1995/33]Lang, Friedrich, Dipl.-Ing.
Patentanwälte Weber & Heim Hofbrunnstrasse 36
D-81479 München / DE
Précédent [1988/28]Betten, Jürgen, Dipl.-Ing.
Betten & Resch Patentanwälte Reichenbachstrasse 19
D-80469 München / DE
Précédent [1987/35]Betten, Jürgen Dipl.-Ing.
Betten & Gleiss Patentanwälte Reichenbachstrasse 19
D-8000 München 5 / DE
Numéro de la demande, date de dépôt86116308.725.11.1986
[1987/35]
Numéro de priorité, dateJP1986002877414.02.1986         Format original publié: JP 2877486
[1987/35]
Langue de dépôtEN
Langue de la procédureEN
PublicationType: A2 Demande sans rapport de recherche 
N°:EP0233333
Date:26.08.1987
Langue:EN
[1987/35]
Type: A3 Rapport de recherche 
N°:EP0233333
Date:24.02.1988
Langue:EN
[1988/08]
Type: B1 Fascicule de brevet 
N°:EP0233333
Date:10.02.1993
Langue:EN
[1993/06]
Rapport(s) de rechercheRapport (complémentaire) de recherche européenne - envoyé le:EP06.01.1988
ClassificationIPC:G03F7/26
[1987/35]
CPC:
G03F7/2022 (EP)
Etats contractants désignésDE,   GB,   NL [1987/35]
TitreAllemand:Photolack-Behandlungsverfahren[1987/35]
Anglais:Method of treating photoresists[1987/35]
Français:Procédé de traitement de photoréserves[1987/35]
Procédure d'examen24.07.1988Requête en examen déposée  [1988/42]
25.09.1990Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M06)
21.03.1991Réponse à une notification de la division dexamen
16.07.1991Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M04)
21.11.1991Réponse à une notification de la division dexamen
28.04.1992Envoi de la notification relative à l'intention de délivrer le brevet (Accord : Oui)
12.08.1992Notification relative à l'intention de délivrer le brevet
28.09.1992Taxe de délivrance payée
28.09.1992Taxe publication/d‘impression payée
Opposition(s)Opposant(s)01  08.11.1993  17.12.1993  ADMISSIBLE
FUSION SYSTEM CORPORATION
7600 Standish Place
Rockville, Maryland 20855 / US
Mandataire de l'opposant
Prinz, Egon
Prinz & Partner Manzingerweg 7
81241 München / DE
 [N/P]
Précédent [1994/02]
Opposant(s)01  08.11.1993  17.12.1993  ADMISSIBLE
FUSION SYSTEM CORPORATION
7600 Standish Place
Rockville, Maryland 20855 / US
Mandataire de l'opposant
Prinz, Egon
Prinz & Partner Manzingerweg 7
D-81241 München / DE
17.01.1994Invitation faite au titulaire de présenter ses observations concernant lacte dopposition
09.03.1995Date des procédures orales
24.03.1995Envoi du procès-verbal des procédures orales
05.11.1996Date d'envoi de la notification de rejet de l'opposition
23.11.1996Effet juridique du rejet de l'opposition [1997/04]
Recours après opposition26.05.1995Recours reçu No.  T0480/95
27.07.1995Mémoire exposant les motifs du recours remis
05.11.1996Résultat de la procédure de recours : maintien du brevet tel que délivré
Taxes payéesTaxe annuelle
18.11.1988Taxe annuelle Année du brevet 03
27.11.1989Taxe annuelle Année du brevet 04
30.11.1990Taxe annuelle Année du brevet 05
28.11.1991Taxe annuelle Année du brevet 06
27.11.1992Taxe annuelle Année du brevet 07
Dérogation à la compétence  Tooltip
exclusive de la juridiction
unifiée du brevet
Voir le Registre de la juridiction unifiée du brevet pour les données relatives à la dérogation
La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni.
Extinctions durant la phase d’opposition  TooltipGB25.11.1995
NL01.06.1996
[1997/51]
Précédent [1996/47]GB25.11.1995
Citations:Recherche[Y]GB2143961
 [Y]  - MICROELECTRONIC ENGINEERING, vol. 3, no. 1/4, December 1985, pages 329-337, Elsevier Science Publishers B.V., North-Holland, Amsterdam, NL; A. GUTMANN et al.: "Thermal stability and etching resistance of formaldehyde- and deep UV-hardened photoresists"
 [Y]  - SOLID STATE TECHNOLOGY, vol. 27, no. 7, July 1984, pages 45-46, Port Washington, New York, US; "Photoresist stabilization system"
 [A]  - IBM TECHNICAL DISCLOSURE BULLETIN, vol. 26, no. 2, July 1983, pages 656-657, New York, US; F. MARTINET: "Control of resist-hardening process in a barrel plasma etcher system"
 [A]  - JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, vol. 29, no. 6, June 1982, pages 1379-1382, Princeton, New Jersey, US; R. ALLEN et al.: "Deep U.V. hardening of positive photoresist patterns"
L'OEB décline toute responsabilité quant à l’exactitude des données émanant d'administrations tierces. Il ne garantit notamment pas l'exhaustivité, l'actualité ou la pertinence à des fins spécifiques de ces données.