EP0566838 - Procédé de fabrication d'un transistor à couches minces [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets] | Statut | La demande est réputée retirée Statut actualisé le 28.02.2003 Base de données mise à jour au 19.10.2024 | Dernier événement Tooltip | 28.02.2003 | Demande réputée retirée | publié le 16.04.2003 [2003/16] | Demandeur(s) | Pour tous les Etats désignés MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. 1006, Oaza Kadoma Kadoma-shi Osaka 571-8501 / JP | [N/P] |
Précédent [1994/50] | Pour tous les Etats désignés MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. 1006, Ohaza Kadoma Kadoma-shi, Osaka-fu, 571 / JP | ||
Précédent [1993/43] | Pour tous les Etats désignés MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD 1006-banchi, Oaza-Kadoma Kadoma-shi, Osaka 571 / JP | Inventeur(s) | 01 /
Furuta, Mamoru 46-2-305, Yamadaike-Higashi-machi Hirakata-shi, Osaka 573-01 / JP | 02 /
Kawamura, Tetsuya 1-16-8-405, Higashinakaburi Hirakata-shi, Osaka 573 / JP | 03 /
Yoshioka, Tatsuo 19-25-304, Kourien-Higashino-cho Hirakata-shi, Osaka 573 / JP | 04 /
Sano, Hiroshi 46-1-207, Yamadaike-Higashi-machi Hirakata-shi, Osaka 573-01 / JP | 05 /
Miyata, Yutaka 2-19-14, Kitayamato Ikoma-shi, Nara 630-01 / JP | [1993/43] | Mandataire(s) | Eisenführ Speiser Patentanwälte Rechtsanwälte PartGmbB Postfach 10 60 78 28060 Bremen / DE | [N/P] |
Précédent [1993/43] | Eisenführ, Speiser & Partner Martinistrasse 24 D-28195 Bremen / DE | Numéro de la demande, date de dépôt | 93102520.9 | 18.02.1993 | [1993/43] | Numéro de priorité, date | JP19920034660 | 21.02.1992 Format original publié: JP 3466092 | JP19920205836 | 03.08.1992 Format original publié: JP 20583692 | [1993/43] | Langue de dépôt | EN | Langue de la procédure | EN | Publication | Type: | A2 Demande sans rapport de recherche | N°: | EP0566838 | Date: | 27.10.1993 | Langue: | EN | [1993/43] | Type: | A3 Rapport de recherche | N°: | EP0566838 | Date: | 31.07.1996 | [1996/31] | Rapport(s) de recherche | Rapport (complémentaire) de recherche européenne - envoyé le: | EP | 12.06.1996 | Classification | IPC: | H01L21/336, H01L21/84 | [1993/43] | CPC: |
H01L21/32155 (EP,US);
H01L29/66757 (EP,US);
H01L29/66765 (EP,US);
H01L29/78675 (EP,US);
H01L29/78678 (EP,US);
Y10S148/15 (EP,US)
| Etats contractants désignés | DE, GB [1993/43] | Titre | Allemand: | Herstellungsverfahren eines Dünnschicht Transistors | [1993/43] | Anglais: | Manufacturing method of thin film transistor | [1993/43] | Français: | Procédé de fabrication d'un transistor à couches minces | [1993/43] | Procédure dexamen | 18.02.1993 | Requête en examen déposée [1993/43] | 25.02.1999 | Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M06) | 11.08.1999 | Réponse à une notification de la division dexamen | 04.02.2000 | Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M06) | 09.08.2000 | Réponse à une notification de la division dexamen | 28.03.2002 | Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M06) | 08.08.2002 | La demande est réputée retirée, date d'effet juridique [2003/16] | 11.11.2002 | Envoi dune notification signalant que la demande est réputée retirée, motif: {0} [2003/16] | Taxes payées | Taxe annuelle | 24.02.1995 | Taxe annuelle Année du brevet 03 | 24.02.1996 | Taxe annuelle Année du brevet 04 | 25.02.1997 | Taxe annuelle Année du brevet 05 | 27.02.1998 | Taxe annuelle Année du brevet 06 | 01.03.1999 | Taxe annuelle Année du brevet 07 | 29.02.2000 | Taxe annuelle Année du brevet 08 | 28.02.2001 | Taxe annuelle Année du brevet 09 | 28.02.2002 | Taxe annuelle Année du brevet 10 |
Dérogation à la compétence Tooltip exclusive de la juridiction unifiée du brevet | Voir le Registre de la juridiction unifiée du brevet pour les données relatives à la dérogation | ||
La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni. | Citations: | Recherche | [XA]EP0383230 (SEIKO EPSON CORP [JP]) [X] 1-3,8,9 * column 12, line 33 - line 54 * * column 11, line 33 - column 12, line 18; figure 1 * [A] 10,13,18,19; | [YA]JPS5830123 ; | [YA]JPS62219574 ; | [A]JPS6329978 ; | [A]JPH02123743 ; | [X]EP0361609 (PHILIPS ELECTRONICS UK LTD [GB], et al) [X] 10,19 * column 7, line 42 - column 8, line 32; figure 2 *; | [A]JPH01276768 ; | [A]JPH0439967 ; | US5141885 [ ] (YOSHIDA AKIHISA [JP], et al) [ ] * abstract * | [YA] - PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, (19830511), vol. 007, no. 107, Database accession no. (E - 174), & JP58030123 A 19830222 (TOKYO SHIBAURA DENKI KK) [Y] 1-3,9 * abstract * [A] 10,13,19 | [YA] - PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, (19880312), vol. 012, no. 080, Database accession no. (E - 590), & JP62219574 A 19870926 (SHARP CORP) [Y] 1-3,9 * abstract * [A] 10,13,19 | [A] - PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, (19880707), vol. 012, no. 239, Database accession no. (E - 630), & JP63029978 A 19880208 (SHARP CORP) [A] 1,3,7-10,13,17-19 * abstract * | [A] - SATOSHI INOUE ET AL, "LOW TEMPERATURE CMOS SELF-ALIGNED POLY-SI TFTS AND CIRCUIT SCHEME UTILIZING NEW ION DOPING AND MASKING TECHNIQUE", PROCEEDINGS OF THE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING, WASHINGTON,, INSTITUTE OF ELECTRICAL AND ELECTRONICS ENGINEERS, (19911208), pages 555 - 558, XP000342189 [A] 1-6,9,10,13-16,19 * page 556, column L - page 557, column R; figure 5 * | [A] - KIKUO ONO ET AL, "EFFECT OF CHANNEL IMPLANTATION ON THE DEVICE PERFORMANCE OF LOW TEMPERATURE PROCESSED POLYCRYSTALLINE SILICON THIN FILM TRANSISTORS", JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, (19901201), vol. 29, no. 12 PART 01, pages 2705 - 2710, XP000263386 [A] 1-3,7-10,13,17-19 * page 2705, column R - page 1706, column L; figure 1 * DOI: http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.29.2705 | [A] - PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, (19900731), vol. 014, no. 354, Database accession no. (E - 0958), & JP02123743 A 19900511 (FUJITSU LTD) [A] 1,4,5,10,12,14,15 * abstract * | [A] - HIRANO R ET AL, "FABRICATION OF POLYCRYSTALLINE SILICON THIN-FILM TRANSISTORS BY ION SHOWER DOPING TECHNIQUE", ELECTRONICS & COMMUNICATIONS IN JAPAN, PART II - ELECTRONICS, vol. 71, no. 10, PART 2, pages 40 - 45, XP000043970 [A] 1,4-6,9,10,14-16,19 * page 40, column L - page 43, column R * | [A] - PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, (19900126), vol. 014, no. 045, Database accession no. (E - 0880), & JP01276768 A 19891107 (FUJITSU LTD) [A] 10,11 * abstract * | [A] - PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, (19920525), vol. 016, no. 224, Database accession no. (E - 1206), & JP04039967 A 19920210 (MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD) [A] 4,10,11,14,19 |