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EP0599779

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Extrait du Registre européen des brevets

EP Présentation générale: EP0599779

EP0599779 - Photoréserve négative à haute résolution ayant une latitude de traitement étendue [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets]
Statut	La demande a été rejetée Statut actualisé le 01.02.2002 Base de données mise à jour au 04.11.2024
Dernier événement Tooltip	01.02.2002	Rejet de la demande	publié le 20.03.2002 [2002/12]
Demandeur(s)	Pour tous les Etats désignés Olin Microelectronic Materials AG c/o KPMG Fides Peat. Innere Margarethenstrasse 5 4002 Basel / CH
	[1998/36]
Précédent [1994/22]	Pour tous les Etats désignés OCG Microelectronic Materials AG Klybeckstrasse 141 CH-4002 Basel / CH
Inventeur(s)	01 / Münzel, Norbert, Dr. Im Clausenfeld 3 D-79423 Heitersheim / DE
	02 / Schulz, Reinhard, Dr. Am Pfarrgarten 5a D-79219 Staufen-Wettelbrunn / DE
	03 / Holzwarth, Heinz St. Blasierweg 2 D-79189 Bad Krozingen / DE
	[1994/22]
Mandataire(s)	Klunker . Schmitt-Nilson . Hirsch Patentanwälte Destouchesstrasse 68 80796 München / DE
	[N/P]
Précédent [1998/10]	Klunker . Schmitt-Nilson . Hirsch Winzererstrasse 106 80797 München / DE
Précédent [1996/18]	(deleted)
Précédent [1994/22]	Roueche, Armand, et al c/o CIBA-GEIGY AG, Patentabteilung, Postfach CH-4002 Basel / CH
Numéro de la demande, date de dépôt	93810737.2	20.10.1993
	[1994/22]
Numéro de priorité, date	CH19920003369	29.10.1992 Format original publié: CH 336992
	[1994/22]
Langue de dépôt	DE
Langue de la procédure	DE
Publication	Type:	A1 Demande avec rapport de recherche
	N°:	EP0599779
	Date:	01.06.1994
	Langue:	DE
	[1994/22]
Rapport(s) de recherche	Rapport (complémentaire) de recherche européenne - envoyé le:	EP	07.04.1994
Classification	IPC:	G03F7/004	[1994/22]
	CPC:	G03F7/038 (EP,US); G03F7/00 (KR); G03F7/0045 (EP,US); G03F7/0382 (EP,US); Y10S430/106 (EP,US); Y10S430/122 (EP,US)
Etats contractants désignés	BE, CH, DE, FR, GB, IT, LI, NL [1994/22]
Titre	Allemand:	Hochauflösender negativ arbeitender Photoresist mit grossem Prozessspielraum	[1994/22]
	Anglais:	High-resolution negative photoresist having extended processing latitude	[1994/22]
	Français:	Photoréserve négative à haute résolution ayant une latitude de traitement étendue	[1994/22]
Procédure dexamen	01.10.1994	Requête en examen déposée [1994/48]
	23.12.1997	Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M04)
	14.08.1998	Réponse à une notification de la division dexamen
	22.03.1999	Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M04)
	19.07.1999	Réponse à une notification de la division dexamen
	27.12.1999	Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M09)
	29.09.2000	Réponse à une notification de la division dexamen
	23.04.2001	Envoi de la notification relative à l'intention de délivrer le brevet (Accord : )
	12.10.2001	Envoi de la notification signalant le rejet de la demande, motif: examen quant à la forme [2002/12]
	22.10.2001	Demande rejetée, date d'effet juridique [2002/12]
Requête en poursuite de la procédure de:	14.08.1998	Requête en poursuite de la procédure déposée
	14.08.1998	Taxe intégralement payée (date de paiement) Requête accordée
	27.08.1998	Décision envoyée
Taxes payées	Taxe annuelle
	02.09.1995	Taxe annuelle Année du brevet 03
	20.11.1996	Taxe annuelle Année du brevet 04
	07.10.1997	Taxe annuelle Année du brevet 05
	22.10.1998	Taxe annuelle Année du brevet 06
	04.10.1999	Taxe annuelle Année du brevet 07
	04.10.2000	Taxe annuelle Année du brevet 08
	Surtaxe
	Surtaxe concernant la taxe annuelle
	31.10.1996	04 M06 Taxe payée le 20.11.1996
	31.10.2001	09 M06 Pas encore payé
Dérogation à la compétence Tooltip exclusive de la juridiction unifiée du brevet	Voir le Registre de la juridiction unifiée du brevet pour les données relatives à la dérogation
	La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni.
Citations:	Recherche	[A]EP0050802 (HOECHST AG [DE]);
		[X]EP0295465 (HOECHST AG [DE]);
		[A]EP0435437 (NIPPON ZEON CO [JP]);
		JPH03158854 [ ] (TOKYO OHKA KOGYO CO LTD);
		JPH03200254 [ ] (NIPPON ZEON CO);
		JPH0412357 [ ] (TORAY INDUSTRIES);
		JPH04251849 [ ] (FUJI PHOTO FILM CO LTD);
		JPH04274242 [ ] (JAPAN SYNTHETIC RUBBER CO LTD);
		JPH04301851 [ ] (NIPPON ZEON CO);
		[PX]EP0530148 (CIBA GEIGY AG [CH], et al)
	Examen	EP0542572

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