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Extrait du Registre européen des brevets

EP Présentation générale: EP0709887

EP0709887 - Structure d'interconnexion comprenant Al2Cu pour une puce de circuit intégré [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets]
StatutLa demande est réputée retirée
Statut actualisé le  20.11.1998
Base de données mise à jour au 14.09.2024
Dernier événement   Tooltip20.11.1998Demande réputée retiréepublié le 07.01.1999 [1999/01]
Demandeur(s)Pour tous les Etats désignés
International Business Machines Corporation
New Orchard Road
Armonk, NY 10504 / US
[N/P]
Précédent [1996/18]Pour tous les Etats désignés
International Business Machines Corporation
Old Orchard Road
Armonk, N.Y. 10504 / US
Inventeur(s)01 / Colgan, Evan George
138 Doxbury Lane
Suffern, New York 10901 / US
02 / Rodbell, Kenneth Parker
3 Leo Lane
Poughquag, New York 12570 / US
03 / Totta, Paul Anthony
29 Sandi Drive
Poughkeepsie, New York 12603 / US
04 / White, James Francis
17 Lake View Drive
Newburgh, New York 12508 / US
[1996/18]
Mandataire(s)Teufel, Fritz, et al
IBM Deutschland Management & Business Support GmbH
Patentwesen u. Urheberrecht
71137 Ehningen / DE
[N/P]
Précédent [1997/24]Teufel, Fritz, Dipl.-Phys., et al
IBM Deutschland Informationssysteme GmbH, Patentwesen und Urheberrecht
70548 Stuttgart / DE
Précédent [1996/18]Lindner-Vogt, Karin, Dipl.-Phys.
IBM Deutschland, Informationssysteme GmbH, Patentwesen und Urheberrecht
D-70548 Stuttgart / DE
Numéro de la demande, date de dépôt95115902.909.10.1995
[1996/18]
Numéro de priorité, dateUS1994033232831.10.1994         Format original publié: US 332328
[1996/18]
Langue de dépôtEN
Langue de la procédureEN
PublicationType: A2 Demande sans rapport de recherche 
N°:EP0709887
Date:01.05.1996
Langue:EN
[1996/18]
Type: A3 Rapport de recherche 
N°:EP0709887
Date:14.08.1996
[1996/33]
Rapport(s) de rechercheRapport (complémentaire) de recherche européenne - envoyé le:EP01.07.1996
ClassificationIPC:H01L23/532
[1996/18]
CPC:
H01L23/53219 (EP,US); H01L23/5226 (EP,US); H01L2924/0002 (EP,US);
Y10S438/927 (EP,US)
C-Set:
H01L2924/0002, H01L2924/00 (EP,US)
Etats contractants désignésDE,   FR,   GB [1996/18]
TitreAllemand:Leitungsstruktur aus Al2Cu für einen integrierten Schaltungschip[1996/18]
Anglais:An interconnect structure using Al2Cu for an integrated circuit chip[1996/18]
Français:Structure d'interconnexion comprenant Al2Cu pour une puce de circuit intégré[1996/18]
Procédure dexamen27.08.1996Requête en examen déposée  [1996/43]
08.04.1997Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M06)
29.08.1997Réponse à une notification de la division dexamen
25.02.1998Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M04)
08.07.1998La demande est réputée retirée, date d'effet juridique  [1999/01]
05.08.1998Envoi dune notification signalant que la demande est réputée retirée, motif: {0}  [1999/01]
Taxes payéesTaxe annuelle
17.10.1997Taxe annuelle Année du brevet 03
Dérogation à la compétence  Tooltip
exclusive de la juridiction
unifiée du brevet
Voir le Registre de la juridiction unifiée du brevet pour les données relatives à la dérogation
La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni.
Citations:Recherche[A]JPH04111317  ;
 [A]FR2143709  (IBM) [A] 1,6 * the whole document *;
 [A]EP0395560  (IBM [US]) [A] 1,2 * column A *;
 [DA]US5071714  (RODBELL KENNETH P [US], et al);
 [A]EP0045405  (IBM [US]) [A] 1 * column W *;
 [DA]US4335506  (CHIU GEORGE T, et al)
 [A]  - A. NAGY ET AL., "Planarized inorganic interlevel dielectric for multilevel metallization - Part I", SOLID STATE TECHNOLOGY, WASHINGTON US, (199101), vol. 34, no. 1, pages 53 - 56, XP000175703 [A] 1 * the whole document *
 [A]  - PATENT ABSTRACTS OF JAPAN, (19920730), vol. 16, no. 354, Database accession no. (E - 1242), & JP04111317 A 19920413 (SONY CORP) [A] 1-17 * abstract *
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