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Extrait du Registre européen des brevets

EP Présentation générale: EP1014440

EP1014440 - Réseau plan d'une couche d'air pour des couches diélectriques entre deux métallisations [Cliquez sur ce lien avec le bouton droit de la souris pour le conserver dans vos signets]
StatutLa demande est réputée retirée
Statut actualisé le  16.11.2007
Base de données mise à jour au 20.09.2024
Dernier événement   Tooltip16.11.2007Demande réputée retiréepublié le 19.12.2007  [2007/51]
Demandeur(s)Pour tous les Etats désignés
Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd.
60 Woodlands Industrial Estate Park D, Street 2
Singapore 738406 / SG
[N/P]
Précédent [2000/26]Pour tous les Etats désignés
Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd.
60 Woodlands Industrial Estate Park D, Street 2
Singapore 738406 / SG
Inventeur(s)01 / Lap, Chan
1631, Larkin St. No. 3 (SF CA)
94109 San Francisco, California / US
02 / Kheng Chok, Tee
76, Jin Berus off, Jin Kim Chuon
42000 Pore Klang, Selangor / MY
03 / Kok Keng, Ong
Blk 132, Choa Cuo Kang Ave 1, No. 4-12, S
68032 Singapore / SG
04 / Chin Hwee, Seah
Blk 119 Bukit, Merah View, No. 06-53
152119 Singapore / SG
[2000/26]
Mandataire(s)Schuffenecker, Thierry
120 Chemin de la Maure
06800 Cagnes-sur-Mer / FR
[N/P]
Précédent [2000/26]Schuffenecker, Thierry
97, chemin de Cassiopée, Domaine de l'étoile
06610 La Gaude / FR
Numéro de la demande, date de dépôt99480130.616.12.1999
[2000/26]
Numéro de priorité, dateUS1998021682321.12.1998         Format original publié: US 216823
[2000/26]
Langue de dépôtEN
Langue de la procédureEN
PublicationType: A2 Demande sans rapport de recherche 
N°:EP1014440
Date:28.06.2000
Langue:EN
[2000/26]
Type: A3 Rapport de recherche 
N°:EP1014440
Date:12.11.2003
[2003/46]
Rapport(s) de rechercheRapport (complémentaire) de recherche européenne - envoyé le:EP01.10.2003
ClassificationIPC:H01L21/768
[2000/26]
CPC:
H01L21/7682 (EP,US)
Etats contractants désignésAT,   BE,   CH,   CY,   DE,   DK,   ES,   FI,   FR,   GB,   GR,   IE,   IT,   LI,   LU,   MC,   NL,   PT,   SE [2000/26]
TitreAllemand:Gitterförmige Anordnung von Luftbrückenstrukturen für Zwischenmetalldielektrikanwendungen[2000/26]
Anglais:Area array air gap structure for intermetal dielectric application[2000/26]
Français:Réseau plan d'une couche d'air pour des couches diélectriques entre deux métallisations[2000/26]
Procédure dexamen11.05.2004Requête en examen déposée  [2004/28]
17.06.2004Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M06)
07.03.2005Réponse à une notification de la division dexamen
18.10.2005Envoi d'une notification de la division d'examen (délai : M04)
27.05.2006Réponse à une notification de la division dexamen
03.07.2007La demande est réputée retirée, date d'effet juridique  [2007/51]
03.08.2007Envoi dune notification signalant que la demande est réputée retirée, motif: {0}  [2007/51]
Requête en poursuite de la procédure de:27.05.2006Requête en poursuite de la procédure déposée
27.05.2006Taxe intégralement payée (date de paiement)
Requête accordée
13.06.2006Décision envoyée
07.03.2005Requête en poursuite de la procédure déposée
07.03.2005Taxe intégralement payée (date de paiement)
Requête accordée
06.04.2005Décision envoyée
Taxes payéesTaxe annuelle
30.12.2001Taxe annuelle Année du brevet 03
31.12.2002Taxe annuelle Année du brevet 04
28.12.2003Taxe annuelle Année du brevet 05
07.03.2005Taxe annuelle Année du brevet 06
02.01.2006Taxe annuelle Année du brevet 07
Surtaxe
Surtaxe concernant la taxe annuelle
31.12.200406   M06   Taxe payée le   07.03.2005
31.12.200608   M06   Pas encore payé
Dérogation à la compétence  Tooltip
exclusive de la juridiction
unifiée du brevet
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La juridiction unifiée du brevet assume l'entière responsabilité de l'exactitude, de l'exhaustivité et de la qualité des données présentées sous le lien fourni.
Citations:Recherche[A]US5324683  (FITCH JON T [US], et al) [A] 1-3,7,8,14,24,25 * column 5, lines 66-68; figure 15; claims 19,20 *;
 [A]US5461003  (HAVEMANN ROBERT H [US], et al) [A] * the whole document *;
 [X]US5814555  (BANDYOPADHYAY BASAB [US], et al) [X] 1-25 * the whole document *;
 [A]US5828121  (LUR WATER [TW], et al) [A] * abstract *
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